
株式会社エフ・オー・アイ
近年、半導体産業は、急激に変化しており、装置製造、デバイス製造においては常に最先端技術が求められています。
FOI Corporationは、(このような時代の日本にあって)、次世代の半導体製造技術に貢献すべく生まれたハイテクベンチャー企業です。
FOI Corporationは、主にプラズマ技術の応用を得意とし、300mm/200mmインチの酸化膜エッチング装置、150mm/300mmシリコンウエハ用アッシング装置等々の研究開発、販売、およびサービスをおこなっております。
FOI Corporationとは、”次世代に向けた装置”を意味しています。
| 会社名 | 株式会社エフ・オー・アイ |
|---|---|
| 所在地 | 神奈川県相模原市小山1-1-10 |
| Tel | 042-700-3010 |
| URL | http://www.foi.co.jp/ |
| 代表 | 奥村 裕 |
| 設立 | 1994年10月17日 |
| 資本金 | 30億6690万円 |

