投資先企業

株式会社エフ・オー・アイ

URL: http://www.foi.co.jp/
Domain: IT
Area: 日本

近年、半導体産業は、急激に変化しており、装置製造、デバイス製造においては常に最先端技術が求められています。

FOI Corporationは、(このような時代の日本にあって)、次世代の半導体製造技術に貢献すべく生まれたハイテクベンチャー企業です。
FOI Corporationは、主にプラズマ技術の応用を得意とし、300mm/200mmインチの酸化膜エッチング装置、150mm/300mmシリコンウエハ用アッシング装置等々の研究開発、販売、およびサービスをおこなっております。

FOI Corporationとは、”次世代に向けた装置”を意味しています。

会社名 株式会社エフ・オー・アイ
所在地 神奈川県相模原市小山1-1-10
Tel 042-700-3010
URL http://www.foi.co.jp/
代表 奥村 裕
設立 1994年10月17日
資本金 30億6690万円